1. 雙極對稱式輸出 這種組合主要用在同靶材的反應式雙磁控濺射靶的鍍膜製程。SiO2, TiO2, Ta2O5, Al2O3, ITO, AZO等。利用改變脈衝作用與非作用的時間來控制濺鍍電漿的密度高低，在特定的電漿阻抗條件下，可優化濺鍍速率與薄膜品質。組合如下：
1.1 脈衝產生控制器 X 1
型號MAGPULS 1000/30/100 bp
• +/- 0-1000V輸出
• 30安培直流輸出(Max.)
• 100安培脈衝電流輸出(Max.)
1.2 直流電源供應器 X 1
型號MAP 1000/20
• 0-1000V輸出
• 0-25安培直流輸出(Max.)
註：在400伏特的濺鍍製程有最大電流輸出25安培。
2. 雙極非對稱式輸出 
這種組態大量用在單靶的反應式濺鍍製程以及氮化物硬膜的治具偏壓用途。也有用於雙靶特殊混合的陶瓷合金濺鍍製程。組合如下：
2.1 脈衝產生控制器 X 1
型號MAGPULS 1000/30/100 bp
• +/- 0-1000V輸出
• 30安培直流輸出(Max.)
• 100安培脈衝電流輸出(Max.)
2.2 直流電源供應器 X 1
型號MAP 1000/3 (供應正電壓)
• 0-1000V輸出
• 0-3安培直流輸出(Max.)
2.3 直流電源供應器 X 1
型號MAP 1000/20 (供應負電壓)
• 0-1000V輸出
• 0-25安培直流輸出(Max.)
