Ion Assisted Co-Sputtering (離子輔助共同濺射)

以三支磁控濺射靶加上一個等離子源執行離子輔助共同濺射。其中一支磁控濺射靶接上AE MDX 1.5KW DC電源，另外兩支磁控濺射靶接上兩套Magpuls QP1000/3/35 bp 3KW脈衝直流電源個別執行單極直流脈衝濺射模式(最高頻率可達83KHz，最高電壓可達1000伏特)。等離子源採用Dressler 1.5KW RF射頻電源。下圖為執行離子輔助共同濺鍍時的製程現況。