二氧化矽雙靶反應濺射鍍膜

採用脈衝直流雙極電源供應器(電壓源)，輸出端接到兩支以矽為靶材的磁控濺射源 利用電漿監控系統(PEM)控制氧氣的流量，進行無電弧反應式濺射鍍膜的製程。

Figure 1. 從視窗觀看雙靶濺射鍍膜製程

Figure 2. 左右兩靶的脈衝電流波形(峰值電流70A)

Figure 3. 德國Magpuls的直流脈衝電源供應器